材料热处理学报

2007, (S1) 302-305

[打印本页] [关闭]
本期目录(Current Issue) | 过刊浏览(Archive) | 高级检索(Advanced Search)

热处理制备Cr2O3-石墨插层化合物的研究
Studies on preparation of Cr2O3-graphite intercalation compounds by vacuum heat treatment

张艳,刘旭光,许并社

摘要(Abstract):

以三氧化铬(CrO_3)与石墨为原料,利用真空热处理方法制备了三氧化二铬(Cr_2O_3)石墨的插层化合物(GICs)。运用X射线衍射(XRD)分析石墨插层化合物。结果表明:经热处理后,在1400℃时CrO_3与石墨形成了纯5阶的石墨的插层化合物。XRD分析表明,对网状层面结构的天然石墨,可以利用物理的方法使一些非碳反应物(原子、分子、离子、或粒子团)插入石墨层间,从而改变石墨的层面结构,使产物出现新的物理性质和化学性质。X射线光电子能谱(XPS)分析和表征了Cr离子以3价的形式存在于石墨插层化合物中。

关键词(KeyWords): 石墨;CrO_3;插层化合物;热处理;XRD;XPS

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家973项目(2004CB217808);; 国家自然科学基金项目(90306014、20471041);; 山西省自然科学基金(2006021020)

作者(Author): 张艳,刘旭光,许并社

文章评论(Comment):

序号(No.) 时间(Time) 反馈人(User) 邮箱(Email) 标题(Title) 内容(Content)
反馈人(User) 邮箱地址(Email)
反馈标题(Title)
反馈内容(Content)
扩展功能
本文信息
服务与反馈
本文关键词相关文章
本文作者相关文章
中国知网
分享