A3钢基体磁控溅射离子镀铝膜相组成的研究AN INVESTIGATION ON THE PHASES OF THE MAGNETRON SPUTTERING ION PLATING ALUMINUM FILM ON THE A3 STEEL SUBSTRATE
王玉魁,薛春,朱英臣,余广华,王斐杰,陈宝清
摘要(Abstract)：
本文应用X射线衍射分析和电子衍射分析研究了A3钢基体磁控溅射离子镀铝膜的相组成。结果表明,膜的相组成主要是基板负偏压决定的。当基板负偏压低于300V时磁控溅射离子镀铝膜是单质铝膜;当基板负偏压为500V时镀膜中心出现了Al_(13)Fe_4相;随着基板负偏压增加,膜中相继出现了Al_5Fe_2、AlFe和AlFe_3等含铁量高的Fe-Al化合物相。
关键词(KeyWords)：
基金项目(Foundation):
作者(Author): 王玉魁,薛春,朱英臣,余广华,王斐杰,陈宝清
参考文献(References)：
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