材料热处理学报

2009, v.30;No.v.30(04) 29-33

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Ni-W-P/CeO2-SiO2纳米复合薄膜的高温氧化动力学特征
High temperature oxidation kinetics characterization of Ni-W-P/CeO2-SiO2 nano-composite films

王军丽,徐瑞东,胡双丽

摘要(Abstract):

脉冲电沉积制备了Ni,Ni-P,Ni-W-P合金薄膜和Ni-W-P/CeO2-SiO2纳米复合薄膜,研究了薄膜材料的高温氧化动力学特征。结果表明:在100~800℃范围内氧化1h时,纳米复合薄膜氧化增重率与氧化温度的氧化动力学曲线近似符合抛物线的递增规律;在300℃下氧化1~5h时,氧化增重率与氧化时间的氧化动力学曲线近似符合直线的递增规律;氧化温度低于400℃时,纳米复合薄膜的基质金属晶粒长大不明显;氧化温度提高到800℃时,纳米复合薄膜表面的氧化膜连续致密,没有裂纹、剥离和脱落,而Ni-W-P合金薄膜表面的氧化膜已变得疏松,甚至产生了微裂纹和针孔;CeO2和SiO2纳米颗粒在Ni-W-P基质金属中的嵌入,在提高纳米复合薄膜组织结构致密性的同时,也明显提高了抗高温氧化性能。

关键词(KeyWords): 纳米复合薄膜;脉冲电沉积;氧化动力学

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家自然科学基金(20806035);; 云南省应用基础研究计划基金(2007E187M);; 云南省教育厅科学研究基金(08C0025);; 昆明理工大学分析测试重点基金(2007-22);; 青年科学研究基金(2006-02)

作者(Author): 王军丽,徐瑞东,胡双丽

参考文献(References):

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