材料热处理学报

2009, v.30;No.113(05) 187-191

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富氮层快速离子渗氮工艺及机理研究
Study on nitrogen-rich layer fast plasma nitriding process and mechanism

韩莉,赵程

摘要(Abstract):

利用正交试验法对活性屏快速离子渗氮工艺参数进行优化,并对正交试验预测的优化工艺参数进行了验证。利用Fick第二扩散定律对快速离子渗氮优化工艺的富氮层进行了氮浓度、氮浓度梯度的计算。试验及计算结果表明,高温渗氮温度、高温渗氮时间和低温渗氮时间对渗层厚度的影响较大,选择合适的参数可以在渗氮时间不变、渗层硬度不降低的前提下显著增加渗层厚度。当富氮层厚度为8μm时,采用快速渗氮技术得到试样内表面与基体之间的氮浓度梯度,为传统渗氮模式的20倍以上。

关键词(KeyWords): 正交试验;工艺优化;富氮层;氮浓度梯度

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 韩莉,赵程

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