镍的金属有机化学气相沉积及相关因素的研究Deposition of Nickel Films by Metal-Organic Chemical Vapor Deposition and Study on the Relevant Factors
彭冬生,赵立峰,刘世良,谢长生
摘要(Abstract)：
研究了以羰基镍为沉积源 ,利用MOCVD技术沉积镍薄膜 ;讨论了沉积温度及压力对沉积速率的影响 ,以及利用SEM、XRD、DSC等分析手段来探讨沉积温度及不同沉积基体对薄膜微观形态的影响。结果表明 ,沉积温度约为 1 50℃可以得到较快的沉积速率 ,而且薄膜连续具有金属光泽 ;以铜为沉积基体所得到的薄膜其微观形态中有明显的晶粒 ,以玻璃为基体得到的薄膜却含有部分非晶态的组织 ;沉积速率随着反应室工作压力的增加而下降。
关键词(KeyWords)： 金属有机化学气相沉积(MOCVD);羰基镍;薄膜
基金项目(Foundation): 国家自然科学基金委员会《两个基地》项目资助(50 0 10 76 0 80 8)
作者(Author): 彭冬生,赵立峰,刘世良,谢长生
参考文献(References)：
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