材料热处理学报

2015, v.36(S2) 145-149

[打印本页] [关闭]
本期目录(Current Issue) | 过刊浏览(Archive) | 高级检索(Advanced Search)

Ti2AlN薄膜的抗高温氧化性能
High temperature oxidation resistance of Ti2AlN films

王蕾,刘佳磊,金松哲

摘要(Abstract):

采用多弧离子镀技术和后续的真空退火工艺在06Cr19Ni10不锈钢基体上制备了Ti_2AlN薄膜。重点研究了Ti_2AlN薄膜的抗高温氧化性能,并与TiN薄膜进行对比。分析结果表明:温度低于800℃时,Ti_2AlN薄膜能够保持良好的抗高温氧化性能;TiN和Ti_2AlN的氧化抛物线速率分别约为1.5×10~(-6)mg~2·cm~(-4)·s~(-1)和5×10~(-7)mg2·cm~(-4)·s~(-1),说明Ti_2AlN的抗高温氧化性能优于TiN;与TiN镀层氧化后形成絮状氧化物不同,Ti_2AlN薄膜经高温氧化后表面生成具有致密连续性的Al_2O_3氧化物,进一步提高了Ti_2AlN薄膜的抗高温氧化性能。

关键词(KeyWords): 多弧离子镀;Ti2AlN薄膜;抗高温氧化性能

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 吉林省科技厅资助项目(20070511)

作者(Author): 王蕾,刘佳磊,金松哲

DOI: 10.13289/j.issn.1009-6264.2015.s2.026

参考文献(References):

文章评论(Comment):

序号(No.) 时间(Time) 反馈人(User) 邮箱(Email) 标题(Title) 内容(Content)
反馈人(User) 邮箱地址(Email)
反馈标题(Title)
反馈内容(Content)
扩展功能
本文信息
服务与反馈
本文关键词相关文章
本文作者相关文章
中国知网
分享