张际亮,郦剑,沃银花,王幼文,甘正浩

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摘要(Abstract)：

应用化学气相沉积(CVD)方法在铝表面形成SiOX陶瓷涂层,通过弯曲实验研究了涂层与基体的结合性能。利用扫描电子显微镜(SEM)观察了弯曲部位的表面形貌,弯曲过程表述为表面凹坑与内部孔洞联合长大,形成长条裂纹状沟槽或突脊,最后裂纹长大直至断裂。研究表明,基底与膜层结合良好,形成高结合力的原因是铝基底与表面SiO膜层间过渡层中的AlO与SiO键合能很高,键合稳定。

关键词(KeyWords)： 铝基;SiOX薄膜;弯曲实验;结合力;机理

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家自然科学基金项目(50271065)

作者(Author): 张际亮,郦剑,沃银花,王幼文,甘正浩

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