具有高结合强度的铝基片SiOx陶瓷膜层CVD制备Highly Adhesive SiOx Film on Aluminum Alloys Prepared by CVD Processes
刘涛,郦剑,沈复初,王幼文
摘要(Abstract)：
采用常压CVD方法在铝合金基底上制备出硅氧化合物陶瓷膜层。使用SEM、TEM及XPS仪分析了膜层形貌、成分和组织结构 ,通过 180°、90°弯曲实验和 45 0℃热冲击实验考察了陶瓷膜层与基片的结合性能 ,证实该技术制备的膜层与基底的结合强度很高。
关键词(KeyWords)： 化学气相沉积(CVD);SiOx膜层;结合强度
基金项目(Foundation): 浙江省自然科学基金资助项目 (5990 67)
作者(Author): 刘涛,郦剑,沈复初,王幼文
参考文献(References)：
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