材料热处理学报

2015, v.36;No.180(06) 202-205

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磁控溅射法制备Cu2ZnSnS4薄膜及其性能表征
Fabrication and characterization of Cu2ZnSnS4 thin films prepared by magnetron sputtering

华中,孟祥成,孙亚明,于万秋,龙东,张守琪

摘要(Abstract):

利用磁控溅射法将Cu/Sn/Zn S前驱体沉积在钙钠玻璃基片上,再通过硫化该前驱体制备Cu2ZnSnS4薄膜。利用X射线衍射仪、拉曼光谱仪、扫描电子显微镜、能谱仪、霍尔效应测量系统和紫外可见分光光度计研究了Cu2ZnSnS4薄膜的微观结构、表面形貌、化学成分、电学和光学性能。结果表明,CZTS薄膜的微观结构依赖于硫化温度和时间。在480℃硫化3 h的薄膜为沿(112)晶面择优取向生长的纯相CZTS薄膜,该薄膜的禁带宽度是1.51 e V,其电阻率和载流子浓度分别为0.39Ω·cm和4.07×1017cm-3。

关键词(KeyWords): Cu2ZnSnS4;磁控溅射;硫化;薄膜

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 吉林师范大学研究生创新研究计划(2013005)

作者(Author): 华中,孟祥成,孙亚明,于万秋,龙东,张守琪

DOI: 10.13289/j.issn.1009-6264.2015.06.039

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