NiTi形状记忆薄膜的溅射制备及晶化热处理工艺Preparation and Annealing of Sputtered NiTi Shape Memory Thin Films
宫峰飞,沈惠敏,王业宁
摘要(Abstract)：
用磁控溅射法制备了NiTi非晶薄膜。薄膜无形状记忆效应。研究了经不同晶化热处理后的形状记忆效应 ,获得的最佳晶化热处理条件为 5 0 0～ 70 0℃范围内晶化 0 5h。
关键词(KeyWords)： NiTi形状记忆薄膜;溅射制备;晶化热处理
基金项目(Foundation): 国家自然科学基金资助 (编号 59672 0 2 4 );; 上海市启明 星基金资助 (编号 98QE1 4 0 2 9)
作者(Author): 宫峰飞,沈惠敏,王业宁
参考文献(References)：
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- 9 宫峰飞,沈惠敏,姜恩永,王业宁.溅射制备NiTi薄膜的马氏体相变.吉林大学自然科学学报,1998(1):37～39.
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