陈学荣,胡军志,韩文政

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摘要(Abstract)：

采用离子束溅射和退火工艺,在K9玻璃基体上制备了氧化钒薄膜,并对其微观形貌及组成进行了研究,还应用脉宽10ns、532nm波长的Nd:YAG激光器对薄膜样品进行了激光损伤阈值的测试。扫描电镜(SEM)分析结果表明,所制备的氧化钒薄膜均匀致密,晶粒平均尺寸约50nm。X射线光电子谱(XPS)分析可知,薄膜中钒的价态为+4价和+5价,薄膜由VO2和V2O5组成。在1Hz多次单点照射的条件下,以刚可见损伤作为判断激光损伤阈值的条件,得到此氧化钒薄膜的激光损伤阈值为21.9mJ/cm2。对刚可见损伤光斑和明显损伤光斑进行了微观分析,探讨了激光损伤原因。

关键词(KeyWords)： 薄膜技术;激光损伤阈值;激光损伤光斑;氧化钒薄膜

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 陈学荣,胡军志,韩文政

参考文献(References)：

• [1]Morin F J.Oxide which show a metal-insulator transition at the neel temperature[J].Phys Review Letter,1959,3:34-36.
• [2]罗裕基.无机化学丛书(第八卷)[M].北京:科学出版社,1998:224-227.
• [3]Case F C.Improved VO2thin films for infrared switching[J].Applied Optics,1991,30(28):4119-4123.
• [4]Chen S,Yi X,Ma H,et al.A novel structural VO2micro-optical switch[J].Optical and Quantum Electronics,2003,35:1352-1355.
• [5]Greenberg C B.Optically switchable thin films:a review[J].Thin Solid Films,1994,251:81-93.
• [6]王宏臣,易新建,陈四海,等.氧化钒薄膜的制备及其光电特性研究[J].中国激光,2003,30(12):1107-1110.WANG Hong-chen,YI Xin-jian,CHEN Si-hai,et al.Preparation of VO2thin film and study on its optical and electrical properties[J].Chinese Journal ofLasers,2003,30(12):1107-1110.
• [7]宁永刚,孙晓泉.二氧化钒薄膜在激光防护上的应用研究[J].红外与激光工程,2005,34(5):530-534.NING Yong-gang,SUN Xiao-quan.Applications of VO2thin films on laser protection[J].Infrared and Laser Engineering,2005,34(5):530-534.

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